10 µm (ou encore 10 000 nm) est un processus de fabrication appartenant à la technologie des semi-conducteurs. Cette technologie a été atteinte par Intel, la principale industrie de semi-conducteurs dans les années 1971-1972. Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 3 µm.

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  • 10 µm (ou encore 10 000 nm) est un processus de fabrication appartenant à la technologie des semi-conducteurs. Cette technologie a été atteinte par Intel, la principale industrie de semi-conducteurs dans les années 1971-1972. Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 3 µm. (fr)
  • 10 µm (ou encore 10 000 nm) est un processus de fabrication appartenant à la technologie des semi-conducteurs. Cette technologie a été atteinte par Intel, la principale industrie de semi-conducteurs dans les années 1971-1972. Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 3 µm. (fr)
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  • 10 µm (ou encore 10 000 nm) est un processus de fabrication appartenant à la technologie des semi-conducteurs. Cette technologie a été atteinte par Intel, la principale industrie de semi-conducteurs dans les années 1971-1972. Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 3 µm. (fr)
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