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- 3 µm (ou encore 3 000 nm) est l'évolution de l'essai précédent du processus 10 µm.Cette technologie des semi-conducteurs a été atteinte en 1975 par les sociétés de semi-conducteurs, comme Intel. Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 1.5 µm. (fr)
- 3 µm (ou encore 3 000 nm) est l'évolution de l'essai précédent du processus 10 µm.Cette technologie des semi-conducteurs a été atteinte en 1975 par les sociétés de semi-conducteurs, comme Intel. Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 1.5 µm. (fr)
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- 3 µm (ou encore 3 000 nm) est l'évolution de l'essai précédent du processus 10 µm.Cette technologie des semi-conducteurs a été atteinte en 1975 par les sociétés de semi-conducteurs, comme Intel. Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 1.5 µm. (fr)
- 3 µm (ou encore 3 000 nm) est l'évolution de l'essai précédent du processus 10 µm.Cette technologie des semi-conducteurs a été atteinte en 1975 par les sociétés de semi-conducteurs, comme Intel. Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 1.5 µm. (fr)
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- 3 µm (fr)
- 3 µm (it)
- Proceso de 3 µm (es)
- 3 µm (fr)
- 3 µm (it)
- Proceso de 3 µm (es)
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