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- En lithographie, un masque à décalage de phase ou PSM (Phase Shift Mask en anglais) est un masque photographique qui module en phase la lumière incidente de façon à réaliser une interférence, ce qui lui permet d'offrir une meilleure résolution qu'un masque binaire. Il existe des masques à décalage de phase atténués (attenuated PSM), alternés (alternating PSM) et sans chrome (chromeless PSM). (fr)
- En lithographie, un masque à décalage de phase ou PSM (Phase Shift Mask en anglais) est un masque photographique qui module en phase la lumière incidente de façon à réaliser une interférence, ce qui lui permet d'offrir une meilleure résolution qu'un masque binaire. Il existe des masques à décalage de phase atténués (attenuated PSM), alternés (alternating PSM) et sans chrome (chromeless PSM). (fr)
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- En lithographie, un masque à décalage de phase ou PSM (Phase Shift Mask en anglais) est un masque photographique qui module en phase la lumière incidente de façon à réaliser une interférence, ce qui lui permet d'offrir une meilleure résolution qu'un masque binaire. Il existe des masques à décalage de phase atténués (attenuated PSM), alternés (alternating PSM) et sans chrome (chromeless PSM). (fr)
- En lithographie, un masque à décalage de phase ou PSM (Phase Shift Mask en anglais) est un masque photographique qui module en phase la lumière incidente de façon à réaliser une interférence, ce qui lui permet d'offrir une meilleure résolution qu'un masque binaire. Il existe des masques à décalage de phase atténués (attenuated PSM), alternés (alternating PSM) et sans chrome (chromeless PSM). (fr)
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- Masque à décalage de phase (fr)
- Фазосдвигающие маски (ru)
- Masque à décalage de phase (fr)
- Фазосдвигающие маски (ru)
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