Le dépôt chimique en solution, ou dépôt en bain chimique (Chemical Solution Deposition ou Chemical Bath Deposition en anglais), est un procédé de dépôt de couches minces à partir d'un précurseur en solution aqueuse. Il procède généralement par nucléation hétérogène (déposition ou adsorption d'ions solvatés sur un substrat solide) formant une couche mince de chalcogénure métallique (essentiellement des oxydes, sulfures et séléniures) et plus rarement de composés ioniques. Ce procédé permet de déposer des couches minces de manière fiable à l'aide d'équipements simples à température modérée (inférieure à 100 °C) et à faible coût. Il peut de surcroît être employé pour des traitements en masse ou de dépôt continu. Les couches minces déposées par bain chimique sont utilisées de longue date dans

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  • Le dépôt chimique en solution, ou dépôt en bain chimique (Chemical Solution Deposition ou Chemical Bath Deposition en anglais), est un procédé de dépôt de couches minces à partir d'un précurseur en solution aqueuse. Il procède généralement par nucléation hétérogène (déposition ou adsorption d'ions solvatés sur un substrat solide) formant une couche mince de chalcogénure métallique (essentiellement des oxydes, sulfures et séléniures) et plus rarement de composés ioniques. Ce procédé permet de déposer des couches minces de manière fiable à l'aide d'équipements simples à température modérée (inférieure à 100 °C) et à faible coût. Il peut de surcroît être employé pour des traitements en masse ou de dépôt continu. Les couches minces déposées par bain chimique sont utilisées de longue date dans l'industrie des semiconducteurs, les cellules photovoltaïques et les supercondensateurs, et sont également étudiées dans le domaine des nanomatériaux. (fr)
  • Le dépôt chimique en solution, ou dépôt en bain chimique (Chemical Solution Deposition ou Chemical Bath Deposition en anglais), est un procédé de dépôt de couches minces à partir d'un précurseur en solution aqueuse. Il procède généralement par nucléation hétérogène (déposition ou adsorption d'ions solvatés sur un substrat solide) formant une couche mince de chalcogénure métallique (essentiellement des oxydes, sulfures et séléniures) et plus rarement de composés ioniques. Ce procédé permet de déposer des couches minces de manière fiable à l'aide d'équipements simples à température modérée (inférieure à 100 °C) et à faible coût. Il peut de surcroît être employé pour des traitements en masse ou de dépôt continu. Les couches minces déposées par bain chimique sont utilisées de longue date dans l'industrie des semiconducteurs, les cellules photovoltaïques et les supercondensateurs, et sont également étudiées dans le domaine des nanomatériaux. (fr)
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  • Le dépôt chimique en solution, ou dépôt en bain chimique (Chemical Solution Deposition ou Chemical Bath Deposition en anglais), est un procédé de dépôt de couches minces à partir d'un précurseur en solution aqueuse. Il procède généralement par nucléation hétérogène (déposition ou adsorption d'ions solvatés sur un substrat solide) formant une couche mince de chalcogénure métallique (essentiellement des oxydes, sulfures et séléniures) et plus rarement de composés ioniques. Ce procédé permet de déposer des couches minces de manière fiable à l'aide d'équipements simples à température modérée (inférieure à 100 °C) et à faible coût. Il peut de surcroît être employé pour des traitements en masse ou de dépôt continu. Les couches minces déposées par bain chimique sont utilisées de longue date dans (fr)
  • Le dépôt chimique en solution, ou dépôt en bain chimique (Chemical Solution Deposition ou Chemical Bath Deposition en anglais), est un procédé de dépôt de couches minces à partir d'un précurseur en solution aqueuse. Il procède généralement par nucléation hétérogène (déposition ou adsorption d'ions solvatés sur un substrat solide) formant une couche mince de chalcogénure métallique (essentiellement des oxydes, sulfures et séléniures) et plus rarement de composés ioniques. Ce procédé permet de déposer des couches minces de manière fiable à l'aide d'équipements simples à température modérée (inférieure à 100 °C) et à faible coût. Il peut de surcroît être employé pour des traitements en masse ou de dépôt continu. Les couches minces déposées par bain chimique sont utilisées de longue date dans (fr)
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  • Chemische Badabscheidung (de)
  • Dépôt chimique en solution (fr)
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