Le dichlorosilane est un composé chimique de formule SiH2Cl2. Il se présente sous la forme d'un gaz incolore d'odeur piquante extrêmement inflammable et susceptible de former des mélanges explosifs avec l'air. Il est principalement utilisé dans l'industrie microélectronique avec l'ammoniac NH3 pour déposer des couches minces de nitrure de silicium Si3N4 par dépôt chimique en phase vapeur basse pression (LPCVD) : 3 SiH2Cl2 + 4 NH3 → Si3N4 + 6 HCl + 6 H2. Il est produit essentiellement par dismutation du trichlorosilane SiHCl3 avec formation parallèle de tétrachlorure de silicium SiCl4 :

Property Value
dbo:abstract
  • Le dichlorosilane est un composé chimique de formule SiH2Cl2. Il se présente sous la forme d'un gaz incolore d'odeur piquante extrêmement inflammable et susceptible de former des mélanges explosifs avec l'air. Il est principalement utilisé dans l'industrie microélectronique avec l'ammoniac NH3 pour déposer des couches minces de nitrure de silicium Si3N4 par dépôt chimique en phase vapeur basse pression (LPCVD) : 3 SiH2Cl2 + 4 NH3 → Si3N4 + 6 HCl + 6 H2. Il est produit essentiellement par dismutation du trichlorosilane SiHCl3 avec formation parallèle de tétrachlorure de silicium SiCl4 : 2 SiHCl3 SiH2Cl2 + SiCl4. (fr)
  • Le dichlorosilane est un composé chimique de formule SiH2Cl2. Il se présente sous la forme d'un gaz incolore d'odeur piquante extrêmement inflammable et susceptible de former des mélanges explosifs avec l'air. Il est principalement utilisé dans l'industrie microélectronique avec l'ammoniac NH3 pour déposer des couches minces de nitrure de silicium Si3N4 par dépôt chimique en phase vapeur basse pression (LPCVD) : 3 SiH2Cl2 + 4 NH3 → Si3N4 + 6 HCl + 6 H2. Il est produit essentiellement par dismutation du trichlorosilane SiHCl3 avec formation parallèle de tétrachlorure de silicium SiCl4 : 2 SiHCl3 SiH2Cl2 + SiCl4. (fr)
dbo:einecsNumber
  • 223-888-3
dbo:iupacName
  • dichlorosilane (fr)
  • dichlorosilane (fr)
dbo:smiles
  • [SiH2](Cl)Cl
dbo:thumbnail
dbo:weight
  • 99.930282
dbo:wikiPageID
  • 6782560 (xsd:integer)
dbo:wikiPageLength
  • 6439 (xsd:nonNegativeInteger)
dbo:wikiPageRevisionID
  • 179900206 (xsd:integer)
dbo:wikiPageWikiLink
prop-fr:apparence
  • gaz incolore d'odeur piquante (fr)
  • gaz incolore d'odeur piquante (fr)
prop-fr:cl
  • 2 (xsd:integer)
prop-fr:h
  • 2 (xsd:integer)
prop-fr:limitesexplosivite
  • de 2,5 % vol. à 80,0 % vol. (fr)
  • de 2,5 % vol. à 80,0 % vol. (fr)
prop-fr:légende
  • 130 (xsd:integer)
  • Structure du dichlorosilane (fr)
prop-fr:nom
  • Dichlorosilane (fr)
  • Dichlorosilane (fr)
prop-fr:nomiupac
  • dichlorosilane (fr)
  • dichlorosilane (fr)
prop-fr:pointcritique
  • , , (fr)
  • , , (fr)
prop-fr:pressionvapeur
  • à (fr)
  • à (fr)
prop-fr:r
  • R12, R23, R34 (fr)
  • R12, R23, R34 (fr)
prop-fr:s
  • S9, S16, S26, S33, S45, S36/37/39 (fr)
  • S9, S16, S26, S33, S45, S36/37/39 (fr)
prop-fr:si
  • 1 (xsd:integer)
prop-fr:smiles
  • [SiH2]Cl (fr)
  • [SiH2]Cl (fr)
prop-fr:solubilite
prop-fr:stdinchi
  • 1 (xsd:integer)
prop-fr:stdinchikey
  • MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N (fr)
  • MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N (fr)
prop-fr:symboles
  • T, C, F+ (fr)
  • T, C, F+ (fr)
prop-fr:tailleImage
  • 200 (xsd:integer)
prop-fr:wikiPageUsesTemplate
dct:subject
rdf:type
rdfs:comment
  • Le dichlorosilane est un composé chimique de formule SiH2Cl2. Il se présente sous la forme d'un gaz incolore d'odeur piquante extrêmement inflammable et susceptible de former des mélanges explosifs avec l'air. Il est principalement utilisé dans l'industrie microélectronique avec l'ammoniac NH3 pour déposer des couches minces de nitrure de silicium Si3N4 par dépôt chimique en phase vapeur basse pression (LPCVD) : 3 SiH2Cl2 + 4 NH3 → Si3N4 + 6 HCl + 6 H2. Il est produit essentiellement par dismutation du trichlorosilane SiHCl3 avec formation parallèle de tétrachlorure de silicium SiCl4 : (fr)
  • Le dichlorosilane est un composé chimique de formule SiH2Cl2. Il se présente sous la forme d'un gaz incolore d'odeur piquante extrêmement inflammable et susceptible de former des mélanges explosifs avec l'air. Il est principalement utilisé dans l'industrie microélectronique avec l'ammoniac NH3 pour déposer des couches minces de nitrure de silicium Si3N4 par dépôt chimique en phase vapeur basse pression (LPCVD) : 3 SiH2Cl2 + 4 NH3 → Si3N4 + 6 HCl + 6 H2. Il est produit essentiellement par dismutation du trichlorosilane SiHCl3 avec formation parallèle de tétrachlorure de silicium SiCl4 : (fr)
rdfs:label
  • Dichlorosilane (fr)
  • Dichloorsilaan (nl)
  • Dichlorosilane (en)
  • Dichlorsilan (de)
  • ثنائي كلورو السيلان (ar)
rdfs:seeAlso
owl:sameAs
prov:wasDerivedFrom
foaf:depiction
foaf:isPrimaryTopicOf
foaf:name
  • Dichlorosilane (fr)
  • Dichlorosilane (fr)
is dbo:wikiPageRedirects of
is dbo:wikiPageWikiLink of
is oa:hasTarget of
is foaf:primaryTopic of