La lithographie en immersion est une technique de gravure de plaques de microprocesseurs informatiques, dans un bain aqueux clair, inventé au sein de la société TSMC. Ce procédé assure une meilleure fiabilité de la gravure, et donc un taux de déchets moins élevé.

Property Value
dbo:abstract
  • La lithographie en immersion est une technique de gravure de plaques de microprocesseurs informatiques, dans un bain aqueux clair, inventé au sein de la société TSMC. Ce procédé assure une meilleure fiabilité de la gravure, et donc un taux de déchets moins élevé. (fr)
  • La lithographie en immersion est une technique de gravure de plaques de microprocesseurs informatiques, dans un bain aqueux clair, inventé au sein de la société TSMC. Ce procédé assure une meilleure fiabilité de la gravure, et donc un taux de déchets moins élevé. (fr)
dbo:wikiPageID
  • 655009 (xsd:integer)
dbo:wikiPageLength
  • 624 (xsd:nonNegativeInteger)
dbo:wikiPageRevisionID
  • 155158616 (xsd:integer)
dbo:wikiPageWikiLink
prop-fr:wikiPageUsesTemplate
dct:subject
rdfs:comment
  • La lithographie en immersion est une technique de gravure de plaques de microprocesseurs informatiques, dans un bain aqueux clair, inventé au sein de la société TSMC. Ce procédé assure une meilleure fiabilité de la gravure, et donc un taux de déchets moins élevé. (fr)
  • La lithographie en immersion est une technique de gravure de plaques de microprocesseurs informatiques, dans un bain aqueux clair, inventé au sein de la société TSMC. Ce procédé assure une meilleure fiabilité de la gravure, et donc un taux de déchets moins élevé. (fr)
rdfs:label
  • Lithographie en immersion (fr)
  • Lithographie en immersion (fr)
owl:sameAs
prov:wasDerivedFrom
foaf:isPrimaryTopicOf
is dbo:wikiPageWikiLink of
is oa:hasTarget of
is foaf:primaryTopic of