Le procédé LIGA ou LIGA-Process, est un procédé utilisé pour la fabrication de microsystèmes, développé vers la fin des années 1970 au Kernforschungszentrum Karlsruhe (KfK). Ce procédé est originellement développé dans le cadre de travaux sur la séparation des isotopes de l'uranium.Le sigle "LIGA" provient de l'allemand.

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  • Le procédé LIGA ou LIGA-Process, est un procédé utilisé pour la fabrication de microsystèmes, développé vers la fin des années 1970 au Kernforschungszentrum Karlsruhe (KfK). Ce procédé est originellement développé dans le cadre de travaux sur la séparation des isotopes de l'uranium.Le sigle "LIGA" provient de l'allemand. C'est une abréviation pour "Röntgenlithographie, Galvanoformung, Abformung", qui représentent les différentes étapes de ce procédé :La lithographie aux rayons X : à partir d'un premier masque réalisé à l'aide d'un canon à électrons, le motif en deux dimensions des microstructures est dupliqué par lithographie au rayons X sur une couche de polymides photosensibles. L'épaisseur et le matériau du masque ainsi que la largeur des microstructures déterminent l'épaisseur maximale de la couche de polymides. Le motif est ensuite développé chimiquement pour pouvoir passer à l'étape suivante.La galvanisation par électrodéposition : du métal est déposé dans les microstructures développées précédemment, sur toute l'épaisseur de la couche de polymides subsistants. La structure ainsi obtenue sert soit directement au formage dans l'étape suivante si l'épaisseur est suffisante pour l'application envisagée (le métal déposé est alors du nickel ou des alliages de nickel, présentant une bonne conductivité et les qualités requises pour une électrodéposition de qualité, ainsi que de bonnes propriétés mécaniques pour le formage), ou est utilisée en tant que masque pour répéter la première étape de lithographie aux rayons X, afin d'obtenir des structures plus épaisses (le métal déposé est alors de l'or, présentant d'excellentes qualités électroniques pour l'électrodéposition ainsi qu'une haute absorption des rayons X).Le formage : après dissolution des polymides subsistants autour desquels s'est développée la galvanisation, le bloc de métal est préparé pour servir d'outil de formage. On peut alors fabriquer en série des microstructures en polymère par formage (en matriçage, estampage ou moulage par injection).Ce procédé permet de fabriquer des microstructures relativement épaisses (jusqu'à 1 mm d'épaisseur) en petite et moyenne série.Il peut être exploité non seulement avec le silicium mais aussi et surtout avec nombre de matériaux pour réaliser des microstructures 3D tels des métaux, des céramiques, mais aussi des verres et des polymères ce qui élargit considérablement le champ d'application des MEMS. Dans ce procédé le matériau constitutif de la microstructure va être déposé uniquement sur les zones où elle sera bâtie. Ensuite le moule est dissous chimiquement. Des polyimides photosensibles sont utilisés pour la réalisation des moules selon un procédé photolithographique classique (mais inversé puisque le polyimide joue le rôle d'un photoresist négatif).
  • El proceso LIGA es un proceso utilizado para la fabricación de microsistemas, desarrollado hacia fines de los años 1970 en Kernforschungszentrum Karlsruhe (KfK). Este proceso originalmente se desarrolló en los cuadros de trabajo sobre la separación de los isótopos de uranio.La sigla "LIGA" proviene del alemán. Es una abreviación para "Röntgenlithographie, Galvanoformung, Abformung", que representan las diferentes etapas de este proceso: La litografía de rayos X: a partir de una primera máscara realizada con la ayuda de un cañón de electrones, el patrón en dos dimensiones de las microestructuras es duplicado por litografía de rayos X sobre una capa de polímero fotosensible. El espesor y el material de la máscara como el tamaño de las micro estructuras determinan el espesor máximo de la capa de polímero. El patrón es a continuación revelado para poder pasar a la etapa siguiente. La galvanización por electro deposición: el metal es depositado sobre las microestructuras reveladas precedentemente, sobre todo el espesor de la capa de polímero remanente. La estructura así obtenida sirve directamente a la formación en la etapa siguiente si el espesor es lo suficiente para la aplicación prevista (el metal depositado es entonces el níquel u otras aleaciones de níquel, las cuales presentan una buena conductividad y las cualidades requeridas para una electro deposición de calidad, como así buenas propiedades mecánicas para el conformado), o son utilizadas en tanto que la máscara para repetir la primera etapa de litografía de rayos X, a fin de obtener estructuras más gruesas (el metal depositado entonces es el oro, que presenta excelentes cualidades electrónicas para la electro deposición así como una alta absorción de rayos X). El conformado: después de la disolución del polímero remanente alrededor del cual se ha desarrollado la galvanización, el bloque de metal es preparado para servir de herramienta de formación. Se pueden entonces fabricar en serie micro estructuras en polímero por formación (en matrices, estampado o moldeado por inyección).Este procedimiento permite fabricar microestructuras relativamente gruesas (hasta 1mm de espesor) en series pequeñas o medianas.Se puede explotar no solamente con el silicio, pero también y sobre todo con muchos materiales para realizar microestructuras 3D como metales, cerámicos, y también de los vidrios y polímeros lo que amplía considerablemente el campo de aplicación de los MEMS.En este método el material constitutivo de la microestructura va a ser depositado solamente sobre las zonas donde se construirá. A continuación el molde se disuelve químicamente. Se utilizan algunas polimeros fotosensibles para la realización de los moldes según un método fotolitográfico clásico (pero invertido puesto que el polimero desempeña el papel fotoresistivo negativo).
  • LIGAとはドイツ語でX線を用いたフォトリソグラフィ(Lithographie)、電解めっき (Galvanoformung)、形成(Abformung)による微細加工を意味する。1980年代初頭にカールスルーエ核開発研究所(Institut für Kernverfahrenstechnik IKVT)のErwin Willy BeckerとWolfgang Ehrfeldのチームによって開発された。LIGAは高縦横比の微細構造物を作成する要求に応える最初の主要な技術の一つである。MEMS素子の製造において重要な役割を担う。高輝度のX線を要するのでシンクロトロン放射光を使用する。 今日では3種類の異なるLIGA技術がある。X-線 LIGA 最初に開発されたLIGA技術でシンクロトロン放射光を使用。UV-LIGA 通常は水銀灯からの紫外線を使用する。特殊なSU-8のようなレジストを使用する。シリコン-LIGA シリコンの加工にDRIEを使用する。サンディア国立研究所の研究者達は1990年代から2000年代初頭にかけて開発した。
  • LIGA is a German acronym for Lithographie, Galvanoformung, Abformung (Lithography, Electroplating, and Molding) that describes a fabrication technology used to create high-aspect-ratio microstructures.
  • Das deutsche Akronym LIGA oder LiGA (steht für die Verfahrensschritte: Lithographie, Galvanik und Abformung) bezeichnet ein Verfahren, welches auf einer Kombination von Tiefenfotolithographie, Galvanik und Mikroabformung basiert. Das LIGA-Verfahren wurde Anfang der 1980er Jahre am damaligen Kernforschungszentrum Karlsruhe von einem Team unter Leitung von Erwin Willy Becker und Wolfgang Ehrfeld im Rahmen der Entwicklung des Trenndüsenverfahrens zur Urananreicherung entwickelt, um extrem kleine Trenndüsen herstellen zu können.Das Verfahren ermöglicht die Herstellung von Mikrostrukturen mit kleinsten Abmessungen bis zu 0,2 µm, Strukturhöhen bis 3 mm, und Aspektverhältnissen bis 50 (für Detailstrukturen bis 500) aus den Materialien Kunststoff, Metall oder Keramik.LIGA wird im Bereich der Mikrosystemtechnik, nicht zuletzt der Mikrooptik, angewandt, und zwar insbesondere dann, wenn Strukturen mit sehr hohen Aspektverhältnissen zu erzeugen sind.
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  • Le procédé LIGA ou LIGA-Process, est un procédé utilisé pour la fabrication de microsystèmes, développé vers la fin des années 1970 au Kernforschungszentrum Karlsruhe (KfK). Ce procédé est originellement développé dans le cadre de travaux sur la séparation des isotopes de l'uranium.Le sigle "LIGA" provient de l'allemand.
  • LIGAとはドイツ語でX線を用いたフォトリソグラフィ(Lithographie)、電解めっき (Galvanoformung)、形成(Abformung)による微細加工を意味する。1980年代初頭にカールスルーエ核開発研究所(Institut für Kernverfahrenstechnik IKVT)のErwin Willy BeckerとWolfgang Ehrfeldのチームによって開発された。LIGAは高縦横比の微細構造物を作成する要求に応える最初の主要な技術の一つである。MEMS素子の製造において重要な役割を担う。高輝度のX線を要するのでシンクロトロン放射光を使用する。 今日では3種類の異なるLIGA技術がある。X-線 LIGA 最初に開発されたLIGA技術でシンクロトロン放射光を使用。UV-LIGA 通常は水銀灯からの紫外線を使用する。特殊なSU-8のようなレジストを使用する。シリコン-LIGA シリコンの加工にDRIEを使用する。サンディア国立研究所の研究者達は1990年代から2000年代初頭にかけて開発した。
  • LIGA is a German acronym for Lithographie, Galvanoformung, Abformung (Lithography, Electroplating, and Molding) that describes a fabrication technology used to create high-aspect-ratio microstructures.
  • Das deutsche Akronym LIGA oder LiGA (steht für die Verfahrensschritte: Lithographie, Galvanik und Abformung) bezeichnet ein Verfahren, welches auf einer Kombination von Tiefenfotolithographie, Galvanik und Mikroabformung basiert.
  • El proceso LIGA es un proceso utilizado para la fabricación de microsistemas, desarrollado hacia fines de los años 1970 en Kernforschungszentrum Karlsruhe (KfK). Este proceso originalmente se desarrolló en los cuadros de trabajo sobre la separación de los isótopos de uranio.La sigla "LIGA" proviene del alemán.
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  • LIGA (Fertigungsverfahren)
  • Proceso liga
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