L'Electron beam physical vapor deposition (EBPVD) est une forme de dépôt physique en phase gazeuse dans laquelle une anode cible sous vide poussé est bombardée par un faisceau d'électrons émis par un filament de tungstène chargé. Le faisceau d'électrons transforme les molécules de la cible en phase gazeuse. Ces molécules précipitent alors sous forme solide, recouvrant toute la chambre à vide (en quelque sorte) d'une couche mince du matériau de l'anode.

PropertyValue
dbpedia-owl:abstract
  • L'Electron beam physical vapor deposition (EBPVD) est une forme de dépôt physique en phase gazeuse dans laquelle une anode cible sous vide poussé est bombardée par un faisceau d'électrons émis par un filament de tungstène chargé. Le faisceau d'électrons transforme les molécules de la cible en phase gazeuse. Ces molécules précipitent alors sous forme solide, recouvrant toute la chambre à vide (en quelque sorte) d'une couche mince du matériau de l'anode.
  • Elektron demeti ile fiziksel buhar biriktirme işlemi, anottaki hedef malzemenin, çok yüksek vakum altında, tungsten bir flaman ile elektron bombardımanına tutulması ile gerçekleştirilir. Elektron demeti, hedefteki atomların yüzeyden koparak gaz fazına geçmesini sağlar. Buharlaştırılan bu atomlar, vakum çemberi içindeki her noktaya yapışarak ince bir film oluşmasını sağlarlar.İnce film kaplamalar, yarı iletken endüstrisinde, elektronik materyaller yapımında, uçak endüstrisinde, yüzeyi korozif etkilerden korumak ve yüzey özelliklerini değiştirmek amacıyla yaygın olarak kullanılmaktadır. Katmanlama işlemi PVD ve CVD olarak ikiye ayrılabilir. CVD katmanlama işleminde çok yüksek sıcaklıklara ulaşılırken, kaplanan malzemenin özellikleri değişebilmektedir. CVD’nin başka bir dezavantajıda, film içerisinde yabancı partiküller oluşabilmekte ve kaplanan filminde özellikleri bozulabilmektedir. Ancak PVD işleminde, CVD kadar yüksek katmanlanma oranı yakalanamamaktadır. PVD işlemi ayrıca, katmanlanan film üzerinde stres oluşmasına sebep olmaktadır. Elektron demeti PVD işlemi ise yine de yüksek sayılabilecek bir katmanlama yüzdesine sahiptir. Film kalınlığı 0.1µm ile 100µm arasında değişebilmektedir.EBPVD sisteminde, vakum çemberinde basınç 10-4 Torr’a kadar düşürülür. Buharlaştırılacak malzeme ingotlar halinde yerleştirilir. Genellikle 6 elektron tabancası, 100lerde KW enerji ile çalıştırılırlar. Elektron demetleri, termiyonik emisyon, alan emisyonu veya anodik ark metotları ile üretilebilir. Üretilen elektronlar yüksek kinetik enerjilere çıkarılıp, ingot üzerine odaklandırılırlar. Kinetik enerjinin %85i ısı enerjisine dönüşür. İngot üzerinde artan sıcaklık ile sıvı hale gelen hedef malzeme, vakum sayesinde buharlaşmaya başlar. İngot, bakırdan yapılmış bir pota içerisinde sıvılaştırılmaktadır ve bakır pota su ile soğutulmaktadır.Titanyum karbit gibi refrakter karbitler ve titanyum borit ve zirkonyum borit gibi boritler, buharlaştırıldıklarında bileşimler değişmez. Böyle malzemeler direk buharlaştırılabilirler. Bu işlemde, ingot üzerine gönderilen çok yüksek enerjili elektron demeti ile vakumlu ortamda buharlaştırma yapılmaktadır. Bazı refrakter oksitlerin ve karbitlerin, elektron demeti ile buharlaştırıldıktan sonra AlO3 ve AlO2 olarak ikiye ayrışırlar. Silikon karbit ve tungsten karbit gibi bazı refrakter karbitlerinde, sıcaklık ile bileşimlerinde değişim meydana gelir. Böyle malzemeleri katmanlamak için, reaktif buharlaştırma veya co-buharlaştırma yöntemleri kullanılabilir. Reaktif buharlaştırma işleminde, metal, ingottan elektron demeti ile buharlaştırılır. Oluşan buhar, reaktif gaz ile taşınır. Bu işlemde genellikle reaktif gaz olarak oksijen kullanılır. Sıcaklık uygun değere ulaşınca, buhar, gaz ile reaksiyon oluşturarak, substrat üzerinde film oluşturulur.Metal karbit filmler ise co-buharlaşma(evaporation) yöntemi ile katmanlanabilir. Bu yöntemde, 2 ingot kullanılır ve biri metal, diğeri karbon içindir. Her bir ingot ayrı elektron demetleri ile ısıtılır. İngotlardaki buharlaşma yüzdesi kontrol edilebilmektedir. Buhar, substrat yüzeyine ulaştığında, termodinamik koşulların oluşması ile, kimyasal kombinasyon oluşturarak, substrat üzerinde metal karbit film elde edilir.Substrat ultrasonik olarak temizlenir ve substrat tutucuya yerleştirilir. Substart tutucu, ingot kaynağı ile mesafeyi ayarlar. Tutucu, aynı zamanda substratı sürekli olarak döndürerek, yüzey üzerinde düzenli bir film oluşumu sağlar.Daha fazla bilgi için: Fiziksel Buhar Biriktirme İnce film kaplama teknikleri
  • Electron Beam Physical Vapor Deposition or EBPVD is a form of physical vapor deposition in which a target anode is bombarded with an electron beam given off by a charged tungsten filament under high vacuum. The electron beam causes atoms from the target to transform into the gaseous phase. These atoms then precipitate into solid form, coating everything in the vacuum chamber (within line of sight) with a thin layer of the anode material.
  • Ein Elektronenstrahlverdampfer ist ein Gerät zum Verdampfen von Feststoffen. Der Elektronenstrahlverdampfer gehört zu den thermischen Verdampfern. Die Verdampfungsenergie wird mittels einer Elektronenkanone in einen Tiegel mit dem Verdampfergut gebracht. Für kleine Proben haben sich sogenannte Mini-Elektronenstrahlverdampfer durchgesetzt, bei denen der Elektronenstrahl direkt auf einen zu verdampfenden Stab (Ø2–6 mm) oder in einen Tiegel geleitet wird. Gerade die Stab-Verdampfung hat vielfältige Vorteile wie: höchst reine Schichten, keine Legierungsprobleme mit Tiegel, Bedampfung von allen Richtungen (sogar nach unten) etc.. Da sich mit der Elektronenstrahlverdampfung sehr hohe Energiedichten und Temperaturen erzielen lassen, können alle bekannten Feststoffe verdampft werden, auch Wolfram, Kohlenstoff, Keramiken etc. Da Elektronenstrahlkanonen ein Vakuum voraussetzen, sind alle Anwendungen der Elektronenstrahlverdampfer Vakuumprozesse. Im Vergleich zu anderen thermischen Verdampfern erzielt man mit Elektronenstrahlverdampfern hohe Verdampfungsraten.
dbpedia-owl:thumbnail
dbpedia-owl:wikiPageID
  • 4190783 (xsd:integer)
dbpedia-owl:wikiPageLength
  • 8915 (xsd:integer)
dbpedia-owl:wikiPageOutDegree
  • 35 (xsd:integer)
dbpedia-owl:wikiPageRevisionID
  • 103714077 (xsd:integer)
dbpedia-owl:wikiPageWikiLink
prop-fr:année
  • 2000 (xsd:integer)
  • 2006 (xsd:integer)
prop-fr:issue
  • 1 (xsd:integer)
prop-fr:langue
  • en
prop-fr:nom
  • Wolfe
  • J. Singh
  • Movchan
prop-fr:pages
  • 35 (xsd:integer)
  • 142 (xsd:integer)
prop-fr:prénom
  • D.
  • B. A.
prop-fr:titre
  • Surface Engineering
  • Surface and Coatings Technology
prop-fr:volume
  • 22 (xsd:integer)
  • 124 (xsd:integer)
prop-fr:wikiPageUsesTemplate
dcterms:subject
rdfs:comment
  • L'Electron beam physical vapor deposition (EBPVD) est une forme de dépôt physique en phase gazeuse dans laquelle une anode cible sous vide poussé est bombardée par un faisceau d'électrons émis par un filament de tungstène chargé. Le faisceau d'électrons transforme les molécules de la cible en phase gazeuse. Ces molécules précipitent alors sous forme solide, recouvrant toute la chambre à vide (en quelque sorte) d'une couche mince du matériau de l'anode.
  • Electron Beam Physical Vapor Deposition or EBPVD is a form of physical vapor deposition in which a target anode is bombarded with an electron beam given off by a charged tungsten filament under high vacuum. The electron beam causes atoms from the target to transform into the gaseous phase. These atoms then precipitate into solid form, coating everything in the vacuum chamber (within line of sight) with a thin layer of the anode material.
  • Ein Elektronenstrahlverdampfer ist ein Gerät zum Verdampfen von Feststoffen. Der Elektronenstrahlverdampfer gehört zu den thermischen Verdampfern. Die Verdampfungsenergie wird mittels einer Elektronenkanone in einen Tiegel mit dem Verdampfergut gebracht. Für kleine Proben haben sich sogenannte Mini-Elektronenstrahlverdampfer durchgesetzt, bei denen der Elektronenstrahl direkt auf einen zu verdampfenden Stab (Ø2–6 mm) oder in einen Tiegel geleitet wird.
  • Elektron demeti ile fiziksel buhar biriktirme işlemi, anottaki hedef malzemenin, çok yüksek vakum altında, tungsten bir flaman ile elektron bombardımanına tutulması ile gerçekleştirilir. Elektron demeti, hedefteki atomların yüzeyden koparak gaz fazına geçmesini sağlar.
rdfs:label
  • Electron beam physical vapor deposition
  • Electron beam physical vapor deposition
  • Elektron Demeti (EBPVD)
  • Elektronenstrahlverdampfer
owl:sameAs
http://www.w3.org/ns/prov#wasDerivedFrom
foaf:depiction
foaf:isPrimaryTopicOf
is dbpedia-owl:wikiPageRedirects of
is dbpedia-owl:wikiPageWikiLink of
is foaf:primaryTopic of